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磁控濺射系統設備的主要用途

2020-07-17 08:34:21

磁控濺射系統設備在如今廣大行業中應用非常的廣泛,那么其主要用途是什么呢?可能很多新用戶不是非常的了解,下面小編來給大家進行講解一下。

磁控濺射系統設備制備的濺射薄膜的特點

磁控濺射系統設備的主要用途:

1.各種功能性的薄膜鍍膜。所鍍的膜一般能夠吸收、透射、反射、折射、偏光等效果。

2.時裝裝飾領域的應用,比如說各種全反射鍍膜以及半透明鍍膜,可適用在手機外殼、鼠標等產品上。

3.微電子行業領域中,其是一種非熱式鍍膜技術,主要應用在化學氣象沉積上。

4.在光學領域中用途巨大,比如說光學薄膜(如增透膜)、低輻射玻 璃和透明導電玻璃等方面得到應用。

5.在機械行業加工中,其表面功能膜、超硬膜等等。其作用能夠提供物品表面硬度從而提高化學穩定性能,能夠延長物品使用周期。

目前,磁控濺射系統設備已經被廣泛的應用到廣大的領域中,在各行各業中都發揮著重要的作用。

磁控濺射系統


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