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磁控濺射系統的主要用途有哪些?

2020-07-17 10:37:51

磁控濺射系統的主要用途

(1)各種功能性薄膜:具有吸收,透射,反射,折射和偏振功能的薄膜。 例如,在低溫下沉積氮化硅抗反射膜以提高太陽能電池的光電轉換效率。

(2)在裝飾領域的應用,例如各種全反射膜和半透明膜,例如手機殼,鼠標等。

(3)作為微電子領域的非熱鍍膜技術,主要用于化學氣相沉積(CVD)或金屬有機

(4)化學氣相沉積(CVD)難以生長并且不適合用于材料的薄膜沉積,并且可以獲得大面積的非常均勻的薄膜。

(5)在光學領域:IF封閉場非平衡磁控濺射技術也已應用于光學薄膜(例如抗反射涂層),低輻射率玻璃和透明導電玻璃中。 特別地,透明導電玻璃目前廣泛地用于平板顯示裝置,太陽能電池,微波和射頻屏蔽裝置和裝置以及傳感器中。

(6)在機械加工工業中,自引入以來,表面功能膜,超硬膜和自潤滑膜的表面沉積技術得到了極大的發展,可以有效提高表面硬度,復合韌性,耐磨性和高韌性。 溫度化學穩定性。 性能,從而大大提高了涂層產品的使用壽命。

除了已廣泛使用的上述領域外,磁控濺射鍍膜儀還在高溫超導薄膜,鐵電薄膜,巨磁阻薄膜,薄膜發光材料, 太陽能電池和記憶合金薄膜。

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磁控濺射系統


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