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淺談磁控濺射系統設備濺射種類

2020-07-17 10:56:50

隨著如今科技的發達,人們對鍍膜的要求越來越高。為了滿足這一需要,不少廠家推出了磁控濺射系統設備,這種設備對于改良鍍膜產品非常的有效,其能夠以高速、低溫、能夠濺射在任何材料上,是目前很多企業都有在使用的一種設備。

磁控濺射系統設備的穩定性,對所生成的膜均勻性、成膜質量、鍍膜速率等方面有很大的影響。磁控濺射系統設備的濺射種類有很多,按照使用的電源分,能夠分為直流磁控濺射,射頻磁控濺射,中頻磁控濺射等等。

直流磁控濺射所用的電源是直流高壓電源,通常在300~1000V,特點是濺射速率快,造價低,后期維修保養便宜。但是只能濺射金屬靶材,如果靶材是絕緣體,隨著濺射的深入,靶材會聚集大量的電荷,導致濺射無法繼續。因此對于金屬靶材通常用直流磁控濺射,由于造價便宜,結構簡單,目前在工業上應用廣泛。

射頻磁控濺射所用的射頻電源的頻率通常是13.56 MHz,可以解決直流磁控濺射不能濺射絕緣靶材的問題。射頻磁控濺射的特點是:絕緣靶材和金屬靶材都能濺射,膜層與基片的附著力強。但是由于結構裝置比較復雜,射頻電源價格昂貴,維修維護成本比較高,會對人體產生輻射,并且需要外部的匹配網絡等因素,不適合應用于工業生產。

磁控濺射系統設備市場前景如何

中頻磁控濺射常用于反應濺射,來制備金屬化合物薄膜,在腔體中除了氬氣外,另外加入少量反應氣體如:氮氣、氧氣等,使這些反應氣體的分子與靶材原子一起沉積到基片上,形成金屬化合物薄膜。

以上就是磁控濺射鍍膜設備按照電源劃分的濺射種類,希望能夠給廣大用戶帶來幫助。

磁控濺射系統


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